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精質業的晶圓檢測設備廠商

作者:    發布時間:2025-06-20     瀏覽次數 :0


晶圓(wafer) 是制造半導體器件的基礎性原材料。 高純度的半導體經過拉晶、切片等工序制備成為晶圓,晶圓經過一系列半導體制造工藝形成微小的電路結構,再經切割、封裝、測試成為芯片,廣泛應用到各類電子設備當中。 晶圓材料經歷了 60 余年的技術演進和產業發展,形成了當今以硅為主、 新型半導體材料為補充的產業局面。

  20 世紀 50 年代,鍺(Ge)是z早采用的半導體材料,z先用于分立器件中。集成電路的產生是半導體產業向前邁進的重要一步, 1958 年 7 月,在德克薩斯州達拉斯市的德州儀器公司,杰克·基爾比制造的第yi塊集成電路是采用一片鍺半導體材料作為襯底制造的。  但是鍺器件的耐高溫和抗輻射性能存在短板,到 60 年代后期逐漸被硅(Si) 器件取代。 硅儲量其豐富,提純與結晶工藝成熟, 并且氧化形成的二氧化硅(SiO2)薄膜絕緣性能好,使得器件的穩定性與可靠性大為提高, 因而硅已經成為應用z廣的一種半導體材料。半導體器件產值來看,全球 95%以上的半導體器件和 99%以上的集成電路采用硅作為襯底材料。

  在半導體工業中,對于晶圓表面的缺陷檢測,一般要求高效準確,能夠快速有效地捕捉缺陷。對于晶圓表面缺陷的檢測,z早主要是采用顯微鏡目檢。隨著技術的發展,半導體工藝制程由90nm發展為14nm,用目檢的方式進行圖形缺陷檢測己經無法滿足目前精度的需求,并且晶圓表面缺陷的數據越來越多,靠人力進行檢查已越來越力不從心。目前使用較為廣泛的基于圖像處理的晶圓表面缺陷檢測方法,通過工業相機采集一張完整的待測晶圓圖像,再進行處理。


  無錫市精質是專業的晶圓檢測設備廠商成立16年來,一直致力于圖像技術及機器視覺技術的研發和制造,具有多年的軟件設計,視覺及圖像比對技術,工業自動化等方面成熟經驗。主要針對3D機器視覺系統,3D建模應用軟件進行研發,所研發制造的機器視覺系統得到很多國際知名企業實際運用。
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